一、操作規(guī)范與環(huán)境干擾控制

1. 電極安裝的幾何優(yōu)化

間距控制：三電極體系中，工作電極與參比電極的距離需嚴(yán)格控制在 2-5 mm（可使用定制化支架定位），距離過遠(yuǎn)會(huì)增大溶液歐姆降誤差。

流速匹配：在流動(dòng)介質(zhì)中（如管道），探頭需安裝在層流區(qū)域（遠(yuǎn)離彎頭、閥門），避免湍流導(dǎo)致電極表面?zhèn)髻|(zhì)不均，可通過流速儀測(cè)量驗(yàn)證。

溫度同步：使用熱電偶實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溶液溫度，若溫度波動(dòng)＞±2℃，需暫停測(cè)量或啟用恒溫裝置（如恒溫水?。?/span>

2. 溶液狀態(tài)的穩(wěn)定化處理

脫氣與靜置：測(cè)量前對(duì)溶液進(jìn)行氮?dú)獯祾撸?/span>5-10 分鐘）去除溶解氧，或靜置 30 分鐘使氣泡逸出，避免氣體吸附在電極表面改變反應(yīng)動(dòng)力學(xué)。

電導(dǎo)率調(diào)節(jié)：若介質(zhì)電導(dǎo)率＜10 μS/cm（如純水），需添加少量電解質(zhì)（如 NaCl）至電導(dǎo)率＞50 μS/cm，確保歐姆降可忽略（＜10% 的極化電位）。

pH 控制：使用緩沖溶液維持體系 pH 穩(wěn)定，避免 pH 波動(dòng)導(dǎo)致金屬腐蝕機(jī)制改變（如從均勻腐蝕轉(zhuǎn)為局部腐蝕）。

3. 電磁干擾屏蔽

線纜選擇：使用雙絞屏蔽線連接探頭與儀器，屏蔽層單端接地（避免環(huán)路電流），長(zhǎng)度控制在 5 米以內(nèi)以降低電容效應(yīng)。

場(chǎng)地隔離：遠(yuǎn)離強(qiáng)電磁場(chǎng)源（如電機(jī)、變壓器），若無法避免，可搭建法拉第籠或使用電池供電的便攜式儀器。

二、質(zhì)量控制標(biāo)準(zhǔn)與定期驗(yàn)證

1. 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)比對(duì)

定期使用已知腐蝕速率的標(biāo)準(zhǔn)試片（如 NACE 標(biāo)準(zhǔn)腐蝕試片）進(jìn)行比對(duì)測(cè)試，要求測(cè)量值與標(biāo)稱值的偏差＜10%。

示例：標(biāo)稱腐蝕速率為 0.1 mm/a 的試片，若測(cè)量值在 0.09-0.11 mm/a 范圍內(nèi)，則認(rèn)為探頭精度合格。

2. 儀器期間核查

每月使用內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)裝置（如已知電阻的模擬電解池）進(jìn)行功能性核查，記錄儀器的電壓 - 電流響應(yīng)曲線，與歷史數(shù)據(jù)對(duì)比無顯著偏移（斜率變化＜5%）。

3. 人員操作考核

操作人員需通過標(biāo)準(zhǔn)化培訓(xùn)，考核內(nèi)容包括電極安裝誤差（≤0.5 mm）、溶液配制精度（濃度誤差≤2%）、數(shù)據(jù)處理正確率（如 IR 降補(bǔ)償步驟完整）。